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X射线光电子能谱(XPS)检测

发布时间:2024-01-08

关键词:X射线光电子能谱(XPS)检测

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来源:北京黄金城集团官网科学技术研究所

文章简介:

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因业务调整,部分个人测试暂不接受委托,望见谅。

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检测范围

硅晶片表面超薄氧化硅层,铂钌合金薄膜,氧化硅,固态锂离子电池,高温硫化硅橡胶,电催化材料,砷化镓半导体,钒渣熟料等。

检测项目介绍

X光电子能谱法是一种表面分析方法,提供的是样品表面的元素含量与形态,一般,其信息深度约为10nm以内。如果辅以离子刻蚀手段,再利用XPS作为分析方法,则可以实现对样品的深度分析。

一、电子能谱法的特点

1、可以分析除 H 和 He 以外的所有元素;可以直接测定来自样品单个能级光电发射电子的能量分布,且直接得到电子能级结构的信息。

2、从能量范围看,如果把红外光谱提供的信息称之为“分子指纹”,那么电子能谱提供的信息可称作“原子指纹”。它提供有关化学键方面的信息,即直接测量价层电子及内层电子轨道能级。而相邻元素的同种能级的谱线相隔较远,相互干扰少,元素定性的标识性强。

3、是一种无损分析。

4、是一种高灵敏超微量表面分析技术。分析所需试样极少量即可,样品分析深度0.5-10nm 。

二、X 射线光电子能谱法的应用:

1、元素定性分析

2、元素定量分折

3、固体表面分析

4、化合物结构签定

检测周期:7-15个工作日

检测费用:初检小样,稍后实验室工程师根据检测项目报价。

X射线光电子能谱(XPS)检测标准

GB/T 28892-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.选择仪器性能参数的表述

GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定

GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则

GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息

GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南

GB/T 30704-2014 表面化学分析 X射线光电子能谱 分析指南

GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法

SJ/T 10458-1993 俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则

GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则

GB/T 25184-2010 X射线光电子能谱仪鉴定方法

GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告

SJ/T 10714-1996 检查X射线光电子能谱仪工作特性的标准方法

GB/T 28633-2012 表面化学分析.X射线光电子能谱.强度标的重复性和一致性

GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定

X射线光电子能谱(XPS)检测流程

1、寄样

2、初检样品

3、报价

4、双方确定,签订保密协议,开始实验

5、7-15个工作日完成实验

6、邮寄检测报告,后期服务。

中析研究所检测有什么优势

1、中析研究所CMA资质认证,出具正规的第三方检测报告。

2、中析研究所拥有正规的第三方实验室,科研团队强大。

3、中析研究所7-15个工作日可出具检测报告,检测周期短。

4,中析研究所为严谨、公正科研机构,高新技术企业

以上就是X射线光电子能谱(XPS)检测内容,关于其他问题,您可以咨询材料实验室工程师为您解答!

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